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目录1

第一章 高纯水制造系统及其管理1

1.1 半导体工业用高纯水的分类及其测量方法1

1.1.1 电子工业对高纯水水质的要求1

1.1.2 电子工业用高纯水的基本指标2

1.1.3 电子工业用高纯水测量结果举例22

1.2 高纯水系统的基本设计25

1.2.1 反渗透法、超滤法的应用25

1.2.2 主要的组成部分35

1.2.3 终端处理系统（即二次纯水系统）55

1.2.4 分解为并联系列（备用系列）的考虑64

1.2.5 经济核算68

参考文献69

1.3 微粒子及微生物的去除70

1.3.1 微粒子及微生物在高纯水装置中的行为71

1.3.2 微生物杀菌法及其效果79

参考文献83

1.4 选材、施工上的注意事项83

1.4.1 选材上应注意的问题84

4.1.2 污染管理与MF 185

1.5 运转管理上应注意的问题88

1.5.1 原水及前处理设备的管理88

1.4.2 施工时应注意的问题88

1.5.2 RO装置的管理89

1.5.3 对微生物污染的控制管理93

1.5.4 今后的电子工业与高纯水94

第二章 半导体工厂中的废水处理及其管理95

2.1 半导体工厂中的废水及其基本处理方法95

2.1.1 半导体工厂中的废水的基本性质95

2.1.2 水处理设备及应注意事项101

2.1.3 基本的处理方法103

2.1.4 封闭系统处理方式112

2.2.1 从氢氟酸类废水中回收水119

2.2 废水回收的具体方法119

参考文献119

2.2.2 从酸、碱废水中回收水127

2.2.3 从有机类废水中回收水129

2.3 封闭系统及其动向136

2.3.1 封闭系统的计划要点137

2.3.2 封闭化的具体含义和内容140

第三章 半导体工厂排出的有害气体的处理143

3.1 有害气体处理的基本方法143

3.1.1 总体方案的确定143

3.1.2 有关的法规及标准144

3.1.3 决定总体方案的要点144

3.2 一般的处理方法146

3.2.1 处理装置的选定146

3.2.2 处理系统的一般组成175

3.2.3 其它179

3.2.4 运行实例180

第四章 半导体工业对精密过滤膜的要求及其使用185

4.1 前言185

4.1.1 电子工业的高速发展及其相关的新技术185

4.2 精密过滤膜的研制及其除菌性和除粒子性187

4.2.1 精密过滤分离机理及各种分离技术187

4.1.3 MF的开发187

4.2.2 灭菌法及过滤除菌189

4.2.3 制造精密过滤膜MF的原材料192

4.2.4 精密过滤膜的制备方法192

4.2.5 用于大量精密过滤中的微孔膜过滤筒的研制200

4.3 精密过滤膜的孔特性与质量评价202

4.3.1 用精密过滤膜测量孔径等202

4.3.2 过滤筒及除菌性207

4.3.3 关于除菌性的若干问题211

4.3.4 关于透过理论217

4.4.1 从滤材上的溶出或脱落221

4.4.2 和预过滤同时并用221

4.4 使用精密滤膜的几点注意事项221

4.4.3 关于流速选择222

4.4.4 关于配套管路等223

4.5 精密过滤在电子工业中的应用224

4.5.1 使用方法224

4.5.2 微生物、微粒的检出方法225

4.6 精密过滤在药品、气体过滤中的应用232

4.6.1 光致抗蚀剂中污染粒子的去除232

4.6.2 溶剂及酸等处理用药品中污染粒子的去除233

4.7.1 高纯水制备系统的发展及微生物和微粒子的污染问题234

4.7 精密过滤在高纯水制备系统中的应用234

4.6.3 空气和气体的滤清（净化）234

4.7.2 微生物的存在及污染235

4.7.3 微粒的存在与污染238

4.7.4 对微生物及微粒污染的对策243

4.8 高纯水制备系统运转管理情况举例246

4.8.1 实际运转的情况246

4.8.2 压差的上升与除菌性247

4.8.3 滤材与在出水口杀菌的必要性249

4.8.4 UV的杀菌效果250

4.8.5 使用寿命、电导率的恢复251

参考文献253