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电子束扫描曝光技术
  • 吴克华著 著
  • 出版社： 北京：宇航出版社
  • ISBN：15244·0014
  • 出版时间：1985
  • 标注页数：425页
  • 文件大小：13MB
  • 文件页数：434页
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图书目录

第一章 绪论1

一、电子束扫描曝光的含义1

二、电子束曝光的优越性3

三、曝光机类型与组成6

四、曝光机的发展与应用11

参考资料15

第二章 电子束的形成与偏转17

第一节 电子枪17

一、发射极18

二、电子束的形成25

三、电子束的交叉截面27

四、交叉截面的电流密度28

五、亮度32

六、三级电子枪的交叉截面半径33

第二节 磁透镜36

一、磁透镜36

二、象差42

三、色差49

四、机械误差和其它破坏轴对称因素52

第三节 电子束的偏转56

一、磁偏转57

二、偏转畸变与象差59

三、静电偏转61

第四节 偏转系统与扫描64

一、矢量扫描法66

二、光栅扫描法70

第五节 电子光柱体的类型72

一、高斯圆束电子光柱体73

二、固定成形束电子光柱体74

三、可变成形束电子光柱体76

四、字符成形束电子光柱体79

参考资料81

第三章 电子抗蚀剂掩模与图形转印83

第一节 电子抗蚀剂的性能83

一、灵敏度86

二、反差91

三、分辨率93

第二节 抗蚀剂图形制作工艺95

一、涂胶95

二、前烘95

三、曝光96

四、熟化96

五、显影97

六、后烘103

第三节 抗蚀剂的掩模作用104

七、等离子体去渣104

一、加厚工艺用的抗蚀剂掩模105

二、减薄工艺用的抗蚀剂掩模108

三、亚微米图形掩模115

第四节 电子抗蚀剂材料123

一、负电子抗蚀剂124

二、正电子抗蚀剂141

参考资料153

一、质点弹性碰撞155

第一节 电子与抗蚀剂的相互作用155

第四章 电子散射与邻近效应155

二、散射截面157

三、弹性散射截面的计算159

四、电子的能量丢失与电子射程162

第二节 薄胶层的吸收能量密度166

一、散射效应166

二、吸收能量密度171

三、前向电子(前散射)的作用173

四、胶中背散射电子的作用176

五、衬底背散射电子的作用178

第三节 近似分析函数182

一、蒙特卡罗模拟182

二、近似分析函数184

三、近似分析函数的参数189

第四节 胶层等能量密度剖面轮廓192

一、剖面轮廓192

二、分辨率195

三、图形线宽197

一、邻近函数202

第五节 邻近效应202

二、邻近函数的参数204

三、减小邻近效应的方法205

第六节 自一致邻近校正技术207

一、邻近相互作用的计算210

二、校正计算与图形分区212

三、图形数据分割218

四、程序包SPECTRE225

第七节 邻近校正中的几种技术226

一、尺寸调整与束点校正227

二、快速图形分割技术229

三、光栅扫描的邻近校正234

四、声表面波器件图形的邻近校正238

参考资料246

第五章 掩模版与基片直接曝光249

第一节 曝光参数的选用249

一、数字分辨率249

二、电子抗蚀剂252

三、束流253

第二节 位置精变255

一、激光干涉仪精密定位256

二、基片直接曝光的套准问题258

三、翘曲基片的校正260

第三节 套准标志及其信号处理264

一、套准标志264

二、标志信号的产生268

三、探测装置273

四、信噪比283

五、标志信号处理285

第四节 自动套准系统291

一、标志探测294

二、模拟信号处理297

三、数字数据处理299

第五节 曝光工作时间估计304

一、芯片实际书写时间Te304

二、辅助时间To306

三、8K FET存贮器芯片书写扫描时间309

第六节 电子束曝光在微型器件制造中的应用312

一、磁泡313

二、约瑟夫逊超导器件317

三、集成光路319

四、声表面波器件324

参考资料325

第六章 电子束扫描曝光机简介328

第一节 VS-1矢量扫描圆束机328

一、概述328

二、电子光柱体332

三、机械工件台系统338

四、VS-1机的自动控制340

五、软件353

第二节 LEBES矢量曝光机355

一、电子光柱体355

二、机械系统357

三、电子部件358

四、计算机系统与软件359

一、概述369

第三节 EBMF6型微细加工机369

二、电子光柱体372

三、机械系统374

四、图形发生器及信号处理376

五、计算机系统与软件381

第四节 MEBES型光栅扫描机385

一、电子光柱体386

二、机械系统388

三、电子部件392

四、计算机系统与软件396

第五节 EL-1型固定成形束机403

一、电子光柱体404

二、EL-1的动态校正407

三、自动套准系统411

四、EL-1机的改进413

第六节 EB55可变成形束机419

一、概述419

二、电子光柱体420

参考资料424

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