图书介绍
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- 张钧，赵彦辉编著 著
- 出版社： 北京：冶金工业出版社
- ISBN：7502444297
- 出版时间：2007
- 标注页数：260页
- 文件大小：12MB
- 文件页数：271页
- 主题词：离子镀－技术
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图书目录
1 多弧离子镀的沉积原理与技术特点1
1.1 真空镀膜技术概论1
1.1.1 真空镀膜技术1
1.1.2 真空镀膜技术分类4
1.2 多弧离子镀的基本结构与沉积原理14
1.3 多弧离子镀的技术特点17
1.4 多弧离子镀的应用19
2 工艺参数及液滴的控制21
2.1 大颗粒的产生21
2.1.1 产生原因21
2.1.2 大颗粒的输运23
2.2 大颗粒的去除24
2.2.1 大颗粒发射的抑制24
2.2.2 在等离子体输运过程中大颗粒数量的减少25
2.2.3 其他过滤器33
2.3 大颗粒的控制效果34
2.4 大颗粒控制的工艺实现及优化36
2.4.1 弧电源36
2.4.2 工艺参数的控制36
2.4.3 过滤器的采用37
参考文献37
3 多弧离子镀设备的改进42
3.1 国内外早期设备42
3.1.1 国外早期设备简介42
3.1.2 国内早期设备简介45
3.2 现阶段设备进展47
3.2.1 国外设备进展47
3.2.2 国内设备进展55
3.3 设备技术发展方向63
参考文献63
4 多弧离子镀超硬反应膜66
4.1 多弧离子镀TiN超硬反应膜66
4.1.1 TiN膜的沉积工艺67
4.1.2 TiN膜层织构71
4.1.3 TiN膜层缺陷——液滴72
4.1.4 TiN膜层的摩擦磨损性能73
4.1.5 TiN膜层的机械加工性能75
4.2 多弧离子镀CrN超硬反应膜76
4.3 多弧离子镀ZrN超硬反应膜82
4.4 多弧离子镀（Ti,Al）N超硬膜86
4.4.1 （Ti,Al）N膜的制备技术86
4.4.2 （Ti,Al）N膜层88
4.4.3 （Ti,Al）N膜的沉积参数88
4.4.4 （Ti,Al）N膜的相组成及晶体结构89
4.4.5 （Ti,Al）N膜的硬度和杨氏模量91
4.4.6 （Ti,Al）N膜的过渡层与结合力92
4.4.7 （Ti,Al）N膜的氧化腐蚀性能94
4.4.8 （Ti,Al）N膜的机械加工性能96
4.5 多弧离子镀（Ti,Cr）N超硬膜98
4.6 多弧离子镀（Ti,Zr）N超硬膜102
4.7 多弧离子镀多元超硬反应膜107
4.7.1 TiAlZrN超硬反应膜107
4.7.2 TiAlCrN超硬反应膜111
参考文献115
5 多弧离子镀高温防护涂层120
5.1 高温防护涂层概述120
5.1.1 高温防护涂层的历史发展［1］120
5.1.2 高温防护涂层的作用123
5.2 MCrAlX高温合金防护涂层［2］126
5.2.1 MCrAlX型涂层的氧化和腐蚀127
5.2.2 MCrAlX型防护涂层的组元及作用131
5.2.3 多弧离子镀MCrAlX型防护涂层的示例134
5.3 Ti-Al-Cr系高温钛合金防护涂层137
5.3.1 高温钛合金的氧化行为137
5.3.2 高温钛合金防护涂层综述138
5.3.3 Ti-Al-Cr系高温钛合金防护涂层139
5.4 热障涂层144
5.4.1 热障涂层的基本设计144
5.4.2 氧化锆的基本物理化学性质145
5.4.3 黏结层材料146
5.4.4 热障涂层制备工艺148
5.4.5 热障涂层研究重点149
参考文献149
6 多弧离子镀装饰涂层152
6.1 TiN装饰涂层152
6.2 ZrN装饰涂层156
6.3 掺金装饰涂层157
6.4 其他装饰涂层161
参考文献163
7 多弧离子镀在功能薄膜中的应用165
7.1 DLC膜165
7.2 CN膜169
7.3 氧化物薄膜169
7.3.1 氧化钛薄膜169
7.3.2 氧化锌薄膜172
7.3.3 氧化铟锡（ITO）薄膜174
7.3.4 氧化镁薄膜175
7.3.5 氧化铝薄膜176
7.3.6 氧化铜薄膜177
7.4 金属膜178
7.5 贮氢薄膜179
7.6 其他复合薄膜180
7.7 本章小结180
参考文献181
8 多弧离子镀合金涂层的成分问题187
8.1 合金（反应）膜的制备方法188
8.1.1 单元素靶多靶共用188
8.1.2 镶嵌组合189
8.1.3 合金靶应用与成分问题190
8.2 成分离析现象的一般规律192
8.3 成分离析效应的基本物理解释194
8.3.1 基片不加负偏压的情形195
8.3.2 基片加一定负偏压后的情形196
8.3.3 阴极靶材各组元含量对成分离析的影响197
8.3.4 基片负偏压对成分离析的影响198
8.4 靶材成分设计199
8.4.1 设计方法（1）200
8.4.2 设计方法（2）201
8.5 本章小结205
参考文献205
9 超硬反应膜形成元素分析207
9.1 超硬膜形成元素207
9.1.1 合金元素选择的制约因素207
9.1.2 基体元素与合金化元素210
9.2 超硬反应膜合金元素的物理特性分析212
9.3 合金化元素的作用217
9.3.1 铬（Cr）元素的作用217
9.3.2 钒（V）元素的作用218
9.3.3 锆（Zr）元素的作用219
9.3.4 硅（Si）元素的作用220
9.3.5 钼（Mo）元素的作用221
9.3.6 钇（Y）、铪（Hf）、硼（B）元素的作用222
9.4 多元超硬反应膜的发展趋势222
参考文献224
10 多弧离子镀、渗复合工艺226
10.1 多弧离子镀、渗复合工艺226
10.1.1 离子渗氮、离子镀复合工艺226
10.1.2 加弧辉光渗镀复合工艺228
10.1.3 镀渗复合工艺232
10.2 研究的前沿问题及发展方向233
参考文献233
11 脉冲偏压多弧离子镀236
11.1 脉冲偏压工艺的工作原理236
11.2 脉冲偏压沉积工艺236
11.3 脉冲偏压多弧离子镀技术的特征和内涵237
11.3.1 脉冲偏压多弧离子镀的热力学类型和特征237
11.3.2 镀膜等离子体的物理原理238
11.3.3 镀膜电路的电磁兼容问题241
11.4 脉冲偏压对薄膜组织结构及性能的影响248
11.5 脉冲工艺在制备各种膜层中的应用252
11.6 脉冲工艺在工业生产中的应用前景254
11.7 发展方向和前景255
参考文献258